融学-在专利布局中,针对风险技术点需要进一步开展()。

['A 进行规避设计', 'B 开展专利挖掘', 'C 侵权比对,找到潜在侵权风险的专利', 'D 无效检索']

自适应图片

内容版权声明:除非注明,否则皆为本站原创文章。

转载注明出处: